•控制器选项:基于Windows®操作系统的触摸屏界面提供全自动的控制。 •多工步菜单,实时图形显示,多级别密码进入,数据记录以及所有等离子体参数的实时SPC(统计过程控制)监控。 •处理室:石英,可选装节流阀。 •微波功率 •显示:彩色触摸屏,自动工艺菜单或手动等离子体处理。 •两种用户指定气体,标配500毫升量流量计,可选第三和/或第四气体通道。 •功率需求:220伏,单相,50Hz,最大10安培。 •CE认证 安全和防护 •电子和软件连锁 · 微波 · 压力 · 处理室门开/关 •反应中心前后以及挂壁盒上的急停按钮 •密码保护的手动和编辑模式 •声音报警 •对于关键工艺参数的软件报警极限 •超温报警传感器(发生器) •射频继电器与处理室门的硬件连锁 •扩展24VAC控制回路的外部连锁连接
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IoN Wave 10 微波等离子去胶机是我们最普及的性能全面的,设计用于实验室和科研目的的等离子体表面改性系统。 微波等离子体系统是下列用途的理想工具: •等离子体表面改性 •有机物表面等离子体清洁 •邦定强度增强 •等离子体刻蚀应用 •等离子体灰化应用 •增强或减弱浸润性 •其它等离子体系统应用 该桌上型系统除真空泵外,全部可内置于一个柜子内。如此专业的等离子体刻蚀系统,如此高性价比的系统在此前绝无仅有! 相关应用: •光刻胶灰化 SU8灰化
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